授業内容・計画(概要)の情報


授業科目名 プラズマプロセシング特論
授業科目の区分 大学院科目    大学院科目
担当教員名及び
連絡先

進藤 春雄
授業の目標
 半導体デバイスプロセスに代表される機能材料プロセスにはプラズマが多用され
る。本論は機能材料プロセスとしてのいわゆるプラズマプロセシングの基礎と応用
について講義するものである。本講義前半では、プラズマプロセシングの基礎理論
として、(1)プラズマの定義およびその特性、(2)高周波プラズマ、(3)プ
ラズマ原子・分子過程等について講義する。本講義後半においては、その典型的応
用としてのシリコン集積回路(ULSI)プロセスについて、(1)MOS型集積回路
の実構造とその特性、(2)デバイス微細化・集積化プロセス技術、(3)デバイ
ス微細化の延長上にあるバイオ・ナノデバイスについて解説する。
成績評価の方法
  
履修のポイント
留意事項

 本講義は産業応用上重要な電子デバイスや材料プロセスに関するものであり、技術展開のスピ
ードが速いので、学会情報や工業新聞等の資料を併用して学習すると効果が上がる。
学部・学科必修/選択の別
工学研究科                電気電子システム工学専攻         修士課程 選択

2015/09/10 15:49:56 作成